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显微测量仪
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NS200国产台阶仪能够测量几个纳米到330μm的台阶高度。这使其可以准确测量在蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;可以测量表面的2D形状或翘曲。也能够测量在生产中包含多个工艺层的半导体或化合物半导体器件所产生的应力。
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